Le tétrafluorure de silicium, également appelé tétrafluorosilane, est un composé du silicium à géométrie tétraédrique et de formule , il s'agit donc d'un halogénure de silicium (à l'instar du tétrachlorure de silicium de formule ).
À température et pression ambiantes, ce composé se présente sous forme d'un gaz incolore. Sa plage d'existence à l'état liquide est singulièrement étroite : entre et .
Ce composé inorganique a été synthétisé pour la première fois en 1812 par le chimiste anglais John Davy.., frère du célèbre physicien et chimiste Sir Humphry Davy.
Production Le traitement thermique de l’hexafluorosilicate de baryum () à des températures supérieures à permet de synthétiser le tétrafluorure de silicium à l'état gazeux ainsi que du fluorure de baryum () en tant que résidu solide.
Utilisation En microélectronique, le tétrafluorure de silicium est utilisé : dans le cadre de l'implantation ionique ; en tant qu'agent de nettoyage ; et, en conjonction avec le silane (), pour le dépôt de silice fluorée par PECVD Tétrafluorosilane, SiF4, Propriétés physiques des gaz, sécurité, FDS, compatibilité avec les matériaux, équilibre gaz-liquide, enthalpie, masse volumique, viscosité, inflammabilité, propriétés de transport, air liquide, consulté le 7 septembre 2009.
Références
Silicium Catégorie:Gaz inorganique Catégorie:Silane Catégorie:Halogénure non-métallique