höger|miniatyr|250px|SU-8-molekylen
SU-8 är ett vanligt epoxy-baserat negativt fotoresist. Det är en väldigt viskös polymer som kan spinnbeläggas eller fördelas med en tjocklek från <1 mikrometer upp till >300 mikrometer och därefter processas med hjälp av normal mikrolitografi. Det kan användas för att mönstra mikrostrukturer med hög aspektkvot (>20).Liu, J.; Cai, B.; Zhu, J.; Ding, G.; Zhao, X.; Yang, C.; Chen, D. "Process research of high aspect ratio microstructure using SU-8 resist" Microsystem Technologies 2004, V10, (4), 265. Dess maximala ljus-absorption sker vid ultravioletta våglängder kring 365 nm (det är inte praktiskt att exponera SU-8 med g-linje-ultraviolett ljus). Vid exponering så korslänkas SU-8s långa molekylkedjor vilket leder till materialsolidifiering. Alla typer av SU-8 fotoresist använder vanligen gamma-butyrolakton som primärt lösningsmedel.
SU-8 utvecklades ursprungligen som ett fotoresist för att förse mikroelektronik-industrin med högupplösningsmasker för produktion av halvledarkomponenter. I dag används det i huvudsak inom mikrofluidik (framför allt via mjuklitografi, men också genom andra stämplingstekniker såsom nanoimprint litografiJesse Greener, Wei Li, Judy Ren, Dan Voicu, Viktoriya Pakharenko, Tian Tang och Eugenia Kumacheva "Rapid, cost-efficient fabrication of microfluidic reactors in thermoplastic polymers by combining photolithography and hot embossing" Lab Chip, 2010, .) och för delar av mikroelektromekaniska system. Materialet används ofta inom bio-MEMS.
SU-8 är i hög grad transparent för ultravioletta våglängder, vilket tillåter strukturering av relativt tjocka (hundratals mikrometer) strukturer med nästan vertikala sidoväggar. Efter exponering och framkallning, så ger materialets i hög grad korslänkade struktur hög kemisk stabilitet och robusthet mot strålningsskador. Härdat korslänkat SU-8 uppvisar en mycket låg mängd av utgasning under vakuumförhållanden. Materialet är dock mycket svårt att ta bort och tenderar att utgasa i sitt oexponerade tillstånd.SU-8 Photoresist Processing
Vanliga framkallningsmedel för SU-8 är 1-metoxi-2-propanolacetat och propylenglykolmonometyleteracetat (PGMEA) följt av sköljning i isopropanol (IPA).
Nya rön SU-8 2000 resist-serien använder cyklopentanon som primärt lösningsmedel och kan användas för att strukturera lager mellan 0,5 och 200 mikrometer i tjocklek. Denna sammansättning kan ge förbättrad vidhäftning på vissa substrat i jämförelse med tidigare kända sammansättningar.
SU-8 3000 resist-serien använder också cyklopentanon som primärt lösningsmedel och är sammansatt för att spinnbelägga tjockare lager från 4 till 150 mikrometer.
Se även Fotoresist
Referenser
Externa länkar SU-8: Thick Photo-Resist for MEMS En webbsida med mycket materialdata och flera processknep. SU-8 Forum Microchem data sheet SU 8 Information Ger information om hur man når rätt tjocklek när man arbetar med SU-8. Distributörer: Microchem , Gersteltec
Kategori:Materialteknik Kategori:Polymerer